Intel pamer video pembuatan prosesor generasi ke-10

Intel baru saja memamerkan sebuah video yang sangat menarik. Kali ini, mereka membagikan sebuah video mengenai bagaimana mereka membuat jajaran prosesor terbaru, yakni Core I-series generasi ke-10.

Dalam video tersebut, Intel memamerkan bagaimana mengubah pasir menjadi silikon untuk digunakan di dalam chipset mereka. Selain itu, mereka juga sedikit menjelaskan bagaimana transistor dapat bekerja.

Perusahaan juga menghadirkan data tambahan tentang Contact Over Active Gate, dan bagaimana langkah-langkah pembuatan untuk faktor proses itu menjadi pembuatan semikonduktor Intel. Beberapa langkah yang diperlihatkan di sini, seperti wadah otomatis yang memindahkan produk tanpa perlu campur tangan manusia menggunakan Front Opening Unified Pods (FOUPS).

Intel memulai metode pembuatan transistor dengan merujuk kembali ke teknologi transistor terakhir, yang memulai debutnya hampir satu dekade yang lalu di simpul 28 nm. Dari sana, video tersebut membahas FinFET dan Contact Over Active Gate (COAG).

Seperti diketahui, COAG merupakan teknologi baru yang diperkenalkan Intel pada teknologi fabrikasi 10 nm untuk mengurangi ukuran 'die' tanpa mengecilkan aspek lain dari node di sebuah prosesor.

COAG dikabarkan menjadi salah satu alasan utama Intel terus berjuang menyempurnakan fabrikasi 10 nm. Hal ini karena adanya kesulitan ketika menyusutkan ukuran, Intel berharap tidak memberikan dampak berupa penurunan aspek lain dari chip, seperti dilaporkan extremetech (26/3/2020).

COAG dilaporkan memiliki penskalaan Intel yang terbatas, dengan teknologi yang bekerja pada kinerja rendah, daya rendah atau kinerja tinggi, atau daya sangat tinggi.

Laporan-laporan ini sudah berumur lebih dari satu tahun sekarang, tetapi Intel masih belum mengatakan apa-apa tentang penggunaan 10nm untuk chip desktop, hanya untuk server dan laptop.

Jika kalian penasaran dengan video dari Intel, berikut ini videonya :